第一三八六章 光刻机的现状（下）（2/4）

“好的，董事长！”

艾德里安心里好奇，为什么孙董事长不同意收购SVG？似乎对研发157nm激光器技术不是特别支持，难道还有更好的方法？明白Papken不会低价出售反折射镜头技术的专利。

“汤普森院长，EUV LLC联盟一旦从理论上验证了EUV光刻机的可行性后，要是GCA继续研发EUV光刻机，理论上大概需要多少投资”

孙健转移话题，也是告诉公司高层，GCA账上的现金流不是多了，而是远远不够。

前世，EUV LLC联盟的几百位顶尖科学家在一起联合研发了6年多，发表了几百篇科研论文，从理论上验证了EUV光刻机是可行的，目的达到，解散了EUV LLC联盟，接下来的实际问题都抛给了ASML，面对如此高深的技术，ASML是选择做还是不做？

ASML一家之力不可能完成研制成功EUV光刻机这项宏伟工程，不得不拿出公司近三成的股权，向下游光刻机重要客户Intel、台积电和三星电子融资了60多亿美元！

据说为了研发EUV光刻机，ASML前前后后在将近20年时间内投入上百亿美元的研发费用。

GCA和Nikon占据光刻机的高端市场，技术水平不分仲伯，但由于高端光刻机用户Intel、IBM、IT、ADM、HP同GCA既是Sematech会员，又是GCA的股东，采用一致对外的策略，GCA的高端光刻机是首选，GCA如今占据全球高端市场份额的近7成，NiKon占3成多。

在技术水平相同的情况下，市场起决定因素。