第三百二十七章 搞光刻机？（1/5）

芯片制程是个大难题！

对于我国来说，很长一段时间都是造不如买，加上芯片制程能力很长一段时间没有落下很多，所以严重缺乏对于配套设备的研发。

蚀刻机、光刻胶、掩膜版、光刻机……等等等等，全部缺乏技术更新迭代。

蚀刻机有中威公司的存在，我国目前的技术实力是和国外旗鼓相当的，哪怕弱一点，也没有弱多少，是没有技术代差的。

掩膜版、光刻胶这些就不一样了，差距太大了。

特别是光刻机，更是重中之重，已经代差很大了。

只是，光刻机不是数学或者物理理论，可以通过思考在纸面上解决，这是需要成体系的解决整条供应链上的一系列工程难题的，跟他说意义不大啊。

别人不卖最先进的光刻机，赵默自忖他只是肉体凡胎一个人，变不出来啊？

“……ASML已经正式交付了EUV光刻机，型号叫做NXE:3100，数值孔径，而且是双工作台，效率比初代机提升了近20倍，三星、IMEC、英特尔、东芝、海力士、还有TJD，刘家公司已经分别获得了一台。其中，三星、英特尔这两家已经在调试这台设备，听说快要成功。但这不是最主要的，最主要的是TJD，它们采取大会战的模式，仅用了三个月就完成了调试并生产出了14nm制程的芯片！”

张如京博士见赵默没有什么反应，却没有意外，而是连忙详细的解释了起来。

IMEC，欧洲微电子研究中心。

“14纳米？”

赵默面上不动声色，暗暗却在皱眉，心想：“这TJD能成为芯片代工世界第一，果然不是盖的。”

这一世，因为他的原因，TJD没有拿中心国际怎么样，于是中心国际这几年的发展比前世好了很多，目前为止已经解决了45nm的制程，正在朝着32nm进军。虽然比TJD依然有差距，TJD已经实现了32nm的量产，但也相差不大了，有望追上。